Filtrul CPL elimina eficient reflexia suprafetei nemetalice, imbunatatind astfel calitatea imaginii subiectului, iar imbunatatirea claritatii imaginii poate creste efectiv saturatia culorii. Obiectivul adopta un proces de lustruire pe doua fete si este utilizat pe un teleobiectiv. Fotografiile sunt inca clare, de inalta fidelitate, refac culorile adevarate ale lucrurilor;



Instalare si indepartare rapida, filtrul magnetic poate fi instalat intr-o secunda



Design de cadru ultra-subtire, care poate preveni eficient vignetarea atunci cand utilizati un obiectiv cu unghi larg. Cadrul este prelucrat de CNC, iar aspectul este plin de straturi.



Dupa ce sticla este lustruita optic, o pelicula high-tech este placata pe suprafata. „Rezistent la mucegai”, „Rezistent la apa”, „Anti-zgarieturi” si „Anti-gras”. Desi are caracteristicile zgarieturilor dure, nu va avea niciun impact asupra calitatii imaginii, chiar daca este contaminata cu picaturi de apa sau ulei, poate fi indepartata cu usurinta;



Echipat cu capac lentile magnetice din material din aliaj de aluminiu de calitate pentru aviatie, atat magnetic, cat si filetat, poate fi instalat pe obiectiv, functie de doua in unu.



Include: adaptor magnetic pentru obiectiv, filtru si capac.

Caracteristicile filtrului K&F Concept Nano-X CPL

• Transmisie mare


• Reflectivitate scazuta


• Cadru CNC anti-alunecare


• Acoperire nanometrica


• Antireflexie


• Impermeabil


• Rezistent la zgarieturi


• Rezistent la ulei

Specificatiile filtrului K&F Concept Nano-X CPL

• Dimensiune: 82mm


• Forma: Circular


• Grosime filtru: 5,5 mm


• Material: filtru


• Sticla: optica


• Material inel: Aliaj de aluminiu de aviatie